Обзор тонких плёнок на основе урана
A review of uranium-based thin films
2023-07-03
SCID: 54.1/cf8dgebn
Discuss with AI
эпитаксиальные тонкие пленкивзаимодействие топлива с оболочкойсплавы уранадиоксид урана (UO2)тонкие пленки на основе урана
Figures from the paper
Abstract (AI)
Тонкие плёнки на основе кремния и переходных металлов доминируют в полупроводниковой промышленности и широко используются во всех современных устройствах. Плёнки также получают из элементов ряда редкоземельных металлов для исследовательских и специализированных применений. Тонкие плёнки урана и диоксида урана изготавливали в 1960-х и 1970-х годах, однако систематические исследования возобновились лишь в начале 2000-х годов. Крупные исследовательские программы были начаты в Оксфордском университете (в 2011 году перенесены в Бристольский университет) и в Лос-Аламосской национальной лаборатории (LANL) в штате Нью-Мексико, США. В настоящем обзоре рассматриваются работы с этими материалами, опубликованные примерно за последние 20 лет. Важные прорывы были связаны с получением эпитаксиальных тонких плёнок, первоначально из металлического урана и UO2, а в последнее время — из многих других соединений и сплавов урана. Эти достижения позволили провести ряд различных экспериментов, которые рассматриваются наряду с некоторыми важными тенденциями. Взаимодействие с подложкой приводит к возникновению различной деформации и, следовательно, к изменению свойств. Важным преимуществом является то, что эпитаксиальные плёнки часто можно получать из материалов, которые невозможно изготовить в виде объёмных монокристаллов. Примерами служат U3O8, U2N3 и сплавы U–Mo, имеющие модифицированную объёмно-центрированную кубическую (ОЦК) структуру. Эпитаксиальные плёнки могут применяться и в прикладных исследованиях. Они представляют собой высококачественные поверхности, а большинство важных реакций в ядерном топливном цикле происходит именно на поверхностях, включая взаимодействие топлива с оболочкой и растворение топлива водой при длительном хранении отработавшего топлива. В заключение обсуждаются возможные перспективы, включая двухслойные структуры, содержащие уран, для спинтроники, а также сверхрешётки, которые могут использоваться в гетероструктурах. Для таких применений потребуются более подробные сведения о взаимодействиях на границах раздела в этих системах, что является важным направлением будущих исследований.
Key Findings
1
Эпитаксиальный рост позволяет получать такие материалы, как U3O8, U2N3 и сплавы U-Mo, в структурах, недоступных для массивных монокристаллов.
2
Эпитаксиальные тонкие плёнки были успешно получены для металлического урана, UO2, различных соединений урана и урановых сплавов.
3
Деформация, индуцированная подложкой, изменяет свойства урансодержащих плёнок, поэтому межфазные эффекты имеют ключевое значение.
4
Исследования тонких плёнок урана и диоксида урана значительно активизировались в начале 2000-х годов благодаря крупным программам Оксфордского/Бристольского университетов и Лос-Аламосской национальной лаборатории.
5
Тонкие плёнки урана создают высококачественные поверхности для изучения реакций ядерного топливного цикла; перспективы включают урансодержащие билайеры для спинтроники и сверхрешётки, но требуют лучшего понимания межфазных взаимодействий.
Research Object
тонкие плёнки на основе урана, включая эпитаксиальные плёнки металлического урана, диоксида урана, соединений урана и урановых сплавов
Research Subject
получение, структурные и зависящие от деформации свойства, межфазные взаимодействия, применения и перспективы развития тонких плёнок на основе урана
Publication Details
Publication Date
2023-07-03
Journal
Publisher
ISSN
Cited by
0
Open access PDF
Access Type
Author Information
Download PDF
Subscribe to digest