Плазмохимическое осаждение из газовой фазы: современное состояние и перспективы развития

Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) представляет собой метод получения тонких пленок полимерных материалов, который позволил успешно преодолеть некоторые проблемы, характерные для жидкофазного химического синтеза и других методов осаждения. На основе CVD разработано множество гибридных методов, которые постоянно совершенствуются с целью изменения свойств получаемых тонких пленок. К ним относится плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD) — метод, расширяющий область применения технологии за счет использования различных прекурсоров, реакционноспособных органических и неорганических материалов, а также инертных материалов. Органические и неорганические мономеры, используемые в качестве прекурсоров в методе PECVD, при воздействии высокоэнергетического плазменного потока подвергаются деструкции и радикальной полимеризации, после чего происходит осаждение тонкой пленки. В этой главе представлен обзор истории, различных характеристик и основных применений PECVD. На основе рассмотрения преимуществ и недостатков PECVD проведено сравнение этого метода с другими методами. Как и любой другой метод, PECVD по-прежнему имеет определенные ограничения, включая выбор подходящих мономеров и соответствующего вводного оборудования. Однако уникальные свойства этого метода и широкий спектр возможных применений делают его перспективным направлением исследований и открывают возможности для дальнейшего развития.