Микроструктурная и доменная инженерия пленок ниобата лития для интегрированных фотонных приложений

В последнее время интегрированная фотоника привлекает значительное внимание благодаря широкому применению в оптической связи и квантовых технологиях. Среди многочисленных фотонных материалов пленка ниобата лития на изоляторе (LNOI) стала перспективной фотонной платформой благодаря своим электрооптическим и нелинейным оптическим свойствам, а также ультранизким потерям и сильной конфайнментности нанофотонных волноводов из ниобата лития, изготовленных посредством CMOS-совместимой микроструктурной инженерии LNOI. Кроме того, ферроэлектрическая доменная инженерия в сочетании с нанофотонными волноводами на LNOI постепенно ускоряет развитие интегрированной нелинейной фотоники, которая будет играть важную роль в квантовых технологиях благодаря возможности интеграции генерации, обработки и вспомогательного детектирования квантовых состояний света. В настоящем обзоре рассматривается недавний прогресс в CMOS-совместимой микроструктурной инженерии и доменной инженерии LNOI для интегрированной фотоники на основе ниобата лития, включая фотонную модуляцию и нелинейную фотонику. Мы полагаем, что значительный прогресс в интегрированной фотонике на LNOI приведет к появлению нового поколения технологий. Поэтому остается насущная потребность в эффективных методах подготовки LNOI, пригодных для масштабного и низкозатратного производства интегрированных фотонных устройств и систем.