Встроенные источники света для кремниевой фотоники
On-chip light sources for silicon photonics
2015-11-20
SCID: 54.1/ne59af6u
Discuss with AI
лазеры Ge-на-кремниикремниевые лазеры на основе III–V материаловкремниевые источники света на кристаллелазеры на квантовых точкахкремниевая фотоника
Figures from the paper
Abstract (AI)
Выполняя функцию электрооптических преобразователей, встроенные кремниевые источники света являются незаменимыми компонентами кремниевых фотонных технологий, разработка которых ведется уже длительное время. В настоящей работе кратко рассматриваются история и последние достижения в области нескольких перспективных вариантов встроенных источников света с точки зрения рабочей длины волны, условий накачки, энергопотребления и технологии изготовления. Кроме того, эффективность каждого варианта оценивается с учетом термической стабильности — важнейшего параметра для сложных оптоэлектронных интегральных схем (OEIC) и оптических соединений. В настоящее время кремниевые (Si) лазеры на основе материалов III–V групп, сформированные с применением технологий бондинга, демонстрируют наилучшие характеристики и имеют наиболее высокие перспективы коммерческого использования в ближайшем будущем. Однако в долгосрочной перспективе непосредственный гетероэпитаксиальный рост материалов III–V групп на Si представляется более перспективным для недорогого производства с высоким выходом годных изделий. Демонстрация высокоэффективных лазеров на квантовых точках (QD), монолитно выращенных на Si, убедительно подтверждает их реализуемость и огромный потенциал для применения в качестве встроенных лазеров. Высокая температурная стабильность лазеров на квантовых точках делает эту конструкцию особенно привлекательной для крупномасштабных оптоэлектронных интегральных схем высокой плотности. Лазеры на основе германия (Ge), выращенного на Si, также конкурентоспособны для будущей крупномасштабной монолитной интеграции. По сравнению с кремниевыми лазерами на основе материалов III–V групп, главное потенциальное преимущество лазеров Ge-на-Si заключается в совместимости их материалов и технологических процессов с кремниевой технологией. Кроме того, универсальность Ge позволяет одновременно реализовать излучение, модуляцию и детектирование фотонов при простой технологии и низкой стоимости. Гибридные кремниевые лазеры на основе слоев III–V групп, соединенных с кремнием методом бондинга, в настоящее время являются наиболее перспективными кандидатами на роль встроенных лазеров для кремниевой фотоники. Встроенные кремниевые источники света крайне востребованы в качестве электрооптических преобразователей в кремниевой фотонике. Чжипин Чжоу и Бин Инь из Пекинского университета (Китай), а также Юрген Мишель из Массачусетского технологического института...
Key Findings
1
Лазеры на основе III–V-материалов, соединённых с кремнием методом бондинга, в настоящее время обеспечивают лучшие характеристики и имеют наилучшие перспективы коммерциализации в ближайшем будущем.
2
Прямая гетероэпитаксиальная опорасти III–V-материалов на кремнии рассматривается как перспективный долгосрочный путь к дешёвому производству с высоким выходом годных изделий.
3
Лазеры на основе германия на кремнии совместимы с кремниевыми материалами и технологией и потенциально позволяют реализовать излучение, модуляцию и детектирование при низкой сложности и стоимости процесса.
4
Высокопроизводительные квантово-размерные лазеры, монолитно выращенные на кремнии, демонстрируют осуществимость и значительный потенциал, особенно благодаря температурно-нечувствительной работе в плотных оптоэлектронных интегральных схемах.
5
В обзоре перспективные кремниевые источники света на кристалле сравниваются по рабочей длине волны, условиям накачки, энергопотреблению, технологии изготовления и термостабильности.
Research Object
внутрикристальные кремниевые источники света для кремниевой фотоники, включая лазеры III–V-на-Si, квантово-точечные, Ge-на-Si и гибридные кремниевые лазеры
Research Subject
их рабочая длина волны, условия накачки, энергопотребление, совместимость и сложность изготовления, а также термостабильность при интеграции в кремниевую фотонику
Publication Details
Publication Date
2015-11-20
Journal
Publisher
ISSN
Open access PDF
Access Type
Author Information
Download PDF
Subscribe to digest