Комплексная методика для конкурирующего прогрессирующего пробоя в нескольких точках для приложений BEOL/FEOL

Comprehensive Methodology for Multiple Spots Competing Progressive Breakdown for BEOL/FEOL Applications
Ernest Y. Wu, Baozhen Li, J. H. Stathis, Andrew Kim
2019-03-01

BEOL и FEOL приложениямонтекарловское моделированиедиэлектрический пробойраспределения жесткого пробоямножественные очаги конкурирующего прогрессивного пробояне-Вейбулловское поведениевремя прогрессивного пробоя (TPBD)вариативность толщины
Представлена общая методика анализа диэлектрического пробоя (BD), демонстрирующая конкурирующий прогрессирующий пробой (PBD) в нескольких точках для приложений в back-end-of-line (BEOL) и front-end-of-line (FEOL) с учётом вариабельности толщины. Для исследования явлений после пробоя применяется процедура Монте-Карло, охватывающая диапазон от небольших вариаций толщины в FEOL SiO2 до очень больших вариаций в низкодиэлектрических (low-K) диэлектриках BEOL. Вместо прямого моделирования токовых транзиентов, как это было сделано недавно, используется методология последовательной статистики BD для генерации множества точек пробоя и соответствующего времени прогрессирующего пробоя (TPBD). Показано, что в режиме одностадийного (single-spot) PBD время первого пробоя (TBD или TBD1) по своей природе некоррелировано со временем остаточного существования (TRES), даже при наличии вариабельности. В отличие от этого, в случае конкурирующего PBD в нескольких точках распределения окончательного жёсткого пробоя (HBD) существенно зависят от вариации толщины, в результате чего они становятся не-Вейбулловскими (non-Weibull) и отклоняются от пуассоновского масштабирования по площади на высоких процентилях. Сообщается о существенной внутренней корреляции между TBD и TRES в сценариях с несколькими точками PBD при наличии вариабельности толщины. Результаты моделирования методом Монте-Карло находятся в отличном соответствии с экспериментальными данными для трёх наборов аппаратного обеспечения из приложений FEOL и BEOL.
1
Представлена общая схема моделирования множественных конкурирующих прогрессирующих диэлектрических пробоев (PBD) в BEOL/FEOL с учётом вариабельности толщины.
2
При множественном PBD и наличии вариабельности толщины наблюдается внутренняя корреляция между TBD и TRES.
3
Для множественных конкурирующих PBD финальные распределения жёсткого пробоя (HBD) существенно зависят от вариабельности толщины, становятся не‑Вейбулловскими и отклоняются от масштабирования по площади Поассона в высоких перцентилях.
4
Для одноточечного PBD первое время пробоя (TBD или TBD1) по сути некоррелировано с остаточным временем (TRES), даже при наличии вариабельности толщины.
5
Используется Монте‑Карло моделирование последовательной статистики пробоев для генерации множественных локальных пробоев и соответствующих времён прогрессирования (TPBD), вместо прямого моделирования токовых транзиентов.
6
Результаты Монте‑Карло моделирования хорошо согласуются с экспериментальными данными по трём наборам аппаратуры из FEOL и BEOL применений.

Диэлектрические слои в BEOL и FEOL полупроводниковых приложениях, демонстрирующие многоточечное конкурирующее прогрессирующее пробойное состояние (PBD)

Влияние вариативности толщины на динамику и статистику многоточечного конкурирующего прогрессирующего пробоя, включая корреляцию между временем первого пробоя (T_BD) и остаточным временем (T_RES), возникновение финальных распределений жесткого пробоя, отличных от Вейбулла, и отклонение от скейлинга по площади по закону Пуассона

Publication Details
Publication Date
2019-03-01
Journal
Publisher
ISSN
Access Type
Author Information
Authors
Ernest Y. Wu
Baozhen Li
J. H. Stathis
Andrew Kim
Explore further
Open the scid.ai AI chat with a ready-made request: it will find papers on a similar topic and help build a literature review.
Find similar papers in the chat
Make a presentation
100%