Эффективная характеристика масок с помощью автоматического извлечения контуров и закруглений углов

Однородность CD на пластинах (CDU) и точность воспроизведения рисунка являются важными показателями при повышении выхода продукции и масштабировании на более мелкие размеры. Кроме контроля флуктуаций процесса (например, фокус, доза), равномерности толщин пленок в стеке пластин и качества изображения (например, контраст), для оптимизации этих показателей существенны качество изготовления маски и модели оптической коррекции близости (OPC). Следовательно, корректная характеристика записанных размеров маски становится все более важной, особенно по мере роста сложности рисунка маски за счет обратной литографии (inverse lithography technology, ILT) и необходимости криволинейных или всевекторных конструкций. Оценка качества маски на основе контуров, в отличие от традиционной калибровочной (gauge) размерной оценки, позволяет естественным образом фиксировать дефекты маски, такие как закругление углов поглотителя (corner rounding, CR) в сложных формах, которые трудно измерить и классифицировать, используя лишь несколько калибров. В настоящем исследовании мы изучаем методы контурной характеристики масок — включая однородность CD и площади, линейность и определение CR — для оценки качества маски. Мы представляем метод и рабочий процесс для автоматического извлечения контуров и определения значений CR маски по SEM-изображениям маски в плане. Контурная метрология и анализ данных затем используются для количественной оценки указанных свойств маски. Наконец, в качестве начального подхода к исследованию влияния качества маски на печать на пластинах мы применяем общий EUV-модель к идеальным и несовершенным маскам и сравниваем смоделированные контуры. Использование реалистичных рисунков масок для моделирования и симуляции литографии считается необходимым для достижения требуемой точности для передовых узлов и технологий.