Процессный набор проектировщика литейного производства SUNY Poly: уникальная платформа поддержки проектирования фотонных интегральных схем
SUNY Poly foundry process design kit: a unique design enablement platform for photonic integrated circuit design
2022-03-04
SCID: 54.1/t53gujfb
Discuss with AI
PDK AIM PhotonicsAlbany NanoTech Complex 300mm литейный заводEPDAPDKлитейный завод SUNY Polyальтернативный поток проектирования PICинтегрированная электронно-фотонная автоматизация проектирования (EPDA)встроенные источники светапроектирование фотонических интегральных схемкомплект проектных процессов (PDK)квантовая фотоникадатчикикремнивая фотоникателекоммуникационные приложения
Figures from the paper
Abstract (AI)
Представлен новый процессный набор проектировщика (PDK), обеспечивающий бесшовный доступ к 300 мм литейному производству Albany NanoTech Complex с целью продвижения технологий кремниевой фотоники. В отличие от традиционных pure-play литей, мы разработали архитектуру, которая позволяет нашим PDK включать библиотеки, созданные внутренними и внешними профильными экспертами. Помимо интегрированных платформ электронно-фотонной автоматизации проектирования (EPDA), наш PDK также выпускается в альтернативном потоке проектирования фотонных интегральных схем (PIC), который снижает порог стоимости для организаций. Кроме того, наши PDK ориентированы на широкую область применения, включая телекоммуникации, а также развивающиеся направления, такие как датчики и квантовая фотоника — все с возможностью встроенных источников света. Будет обсуждаться PDK Американского института производства (AIM Photonics), демонстрирующий эти возможности.
Key Findings
1
Новый PDK обеспечивает бесшовный доступ к 300 мм фабрике Albany NanoTech Complex для продвижения технологии кремниевой фотоники.
2
Продемонстрирована реализация PDK от AIM Photonics, иллюстрирующая эти функциональные возможности платформы.
3
Фреймворк PDK поддерживает библиотеки, разработанные как внутренними, так и внешними экспертами, в отличие от традиционных pure-play фабрик.
4
PDK интегрируется с платформами Electronic Photonic Design Automation (EPDA) и также выпускается в альтернативном потоке проектирования PIC, что снижает барьеры по стоимости.
5
PDK ориентирован на широкое прикладное пространство, включая телекоммуникации, сенсоры и квантовую фотонику, и поддерживает встроенные источники света.
Research Object
PDK (набор для проектирования процессов) SUNY Poly для 300 мм кремниевой фотонической фабрики Albany NanoTech
Research Subject
Возможности платформы для поддержки проектирования, включая интегрированную EPDA, мультибиблиотечный фреймворк (внутренние и внешние библиотеки), альтернативный недорогой поток проектирования PIC, поддержку встроенных источников света и ориентирование на приложения в телекоммуникациях, сенсорах и квантовой фотонике, продемонстрированные на PDK AIM Photonics
Publication Details
Publication Date
2022-03-04
Journal
Publisher
ISSN
Cited by
1
Access Type
Author Information
Download PDF
Subscribe to digest